삼성전자, 차세대 '5나노 공정' 개발..."초미세 공정에서 기술 리더십 강화"

채혜린 기자 / 기사승인 : 2019-04-16 14:30:21
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올해 업계 최초 극자외선 공정 7나노 제품 양산 시작, 4월 안에 본격 출하

[일요주간=채혜린 기자] 삼성전자가 셀 설계 최적화를 통해 기존 7나노 공정 대비 로직 면적을 25% 줄일 수 있는 차세대 ‘5나노 공정’을 개발했다.

5나노 공정은 극자외선(Extreme Ultra Violet, EUV) 기술을 기반으로 한다.

삼성전자는 “5나노 공정은 20% 향상된 전력 효율 또는 10% 향상된 성능을 제공하고 특히 7나노 공정에 적용된 설계 자산(IP, Intellectual Property)을 활용할 수 있다”면서 “기존 7나노 공정을 사용하는 고객은 5나노 공정의 설계 비용을 줄일 수 있다”고 16일 밝혔다. 

 

▲ 화성캠퍼스 EUV 라인 조감도./제공=삼성전자.

삼성전자에 따르면 극자외선 노광 기술은 불화아르곤을 대체할 수 있는 광원으로 파장의 길이가 기존 불화아르곤의 1/14 미만에 불과해 보다 세밀한 반도체 회로 패턴구현에 적합하다.

또 복잡한 멀티 패터닝 공정을 줄일 수 있어 반도체의 고성능과 생산성을 동시에 확보할 수 있는 장점이 있다.

삼성전자는 “최근 반도체 공정이 10나노 이하로 접어들면서 불화아르곤(ArF) 광원을 사용하는 기존의 노광 공정은 한계에 이르렀다”고 이번 극자외선 기술을 기반으로 하는 5나노 공정 개발의 배경을 시사했다.

삼성전자는 이어 “올해 초 업계 최초로 극자외선 공정을 이용한 7나노 제품 양산을 시작했고 이달 안에 본격 출하하라 계획”이라면서 “올해 내에 양산을 목표로 6나노 제품 설계를 완료했고 초미세 공정에서 기술 리더십을 강화하고 있다”고 설명했다.

6나노 공정 기반 제품에 대해서는 대형 고객과 생산 협의를 진행하고 있으며, 제품 설계가 완료되어(Tape-Out) 올해 하반기 양산할 예정이다.

배영창 삼성전자 파운드리사업부 전략마케팅팀 부사장은 "삼성전자의 극자외선 기반 최첨단 공정은 성능과 IP 등에서 다양한 강점을 가지고 있어 5G, AI, 전장 등 신규 응용처를 중심으로 높은 수요가 예상된다"라며 "향후에도 첨단 공정 솔루션으로 미래 시스템 반도체 산업을 이끌어 나갈 것"이라고 전했다.

삼성전자는 최신 파운드리 생산시설인 화성캠퍼스 S3 라인에서 극자외선 기반 최첨단 공정 제품을 생산하고 있다.

현재 건설 중인 화성캠퍼스 극자외선 전용 라인은 2020년부터 본격 가동한다.

 

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